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体,耐酸碱盐及有机溶液的腐蚀;面加热,温度分布均匀,可以充分接触加热;升温速度
迅速,4-5s可升到1000℃,高真空或惰性气氛下可加热到1500℃,有氧环境建议低于
600℃短期使用;适用于快速煺火炉、溅射镀膜设备、电镜样品加热、MBE设备、金属蒸
发等设备;目前有*大3英寸的圆形和*大93.4mm*75mm的矩形加热器供选择。
北京浅蓝纳米科技发展有限责任公司磁控溅射、热电阻蒸发、多源蒸发与手套箱一体机、有机蒸发、高低温真空探针台、ALD、PE-CVD等、真空键合机;BNC\USB\真空航插电极法兰\RJ45\光纤真空馈通法兰 |