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详细信息
主要性能参数：
■ 漏率：＜10-8 Pa·l/s; ■ 耐烘烤温度：＜350°C;均采用无氧铜垫圈密封;
■ 应用领域：用于超高真空仪器和设备，可从外部清楚地观察系统内部的情况,涂屏后可做荧
光屏使用；
■ 镀膜应用：用于激光沉积镀膜设备的248nm波段激光入口，国产通过率90%，进口通过率
99.5%。
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北京浅蓝纳米科技发展有限责任公司
ALD原子层沉积设备、PE-ALD、PE-CVD、源瓶
真空观察窗
页面价格仅供参考，具体请联系报价价格 价格电议,您可以向供应商询价得到该产品价格- 品 牌：LightBlue_Nano
- 所 在 地：北京
- 更新日期：2024-04-29
合计：1台总价：电议北京浅蓝纳米科技发展有限责任公司 地址： 北京市大兴区旧桥路25号3-1203号内容声明：谷瀑为第三方平台及互联网信息服务提供者，谷瀑（含网站、客户端等）所展示的商品/服务的标题、价格、详情等信息内容系由店铺经营者发布，其真实性、准确性和合法性均由店铺经营者负责。谷瀑提醒您购买商品/服务前注意谨慎核实，如您对商品/服务的标题、价格、详情等任何信息有任何疑问的，请在购买前通过谷瀑与店铺经营者沟通确认；谷瀑上存在海量店铺，如您发现店铺内有任何违法/侵权信息，请在谷瀑首页底栏投诉通道进行投诉。
