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    MS-246小型多靶磁控溅射镀膜机

    真空腔室:1Cr18Ni9Ti优质不锈钢材质,氩弧焊接,上开盖和前开门结构;
    真空系统:机械泵+分子泵(进口和国产可选);
    极限真空:优于8✕10-5Pa(设备空载抽真空24h);
    真空抽速:大气~8✕10-4Pa≤30min;
    升降基片台:尺寸直径100mm,高度60~120mm可调,旋转0~20r/min可调,可加热至300℃(可选水冷功能),可选配偏压清洗功能;
    磁控靶:直径2英寸2只(可升级成3只),兼容直流和射频,可以溅射磁性材料的靶材;
    溅射电源:直流脉冲溅射电源、全自动匹配的射频溅射电源可任选;
    质量流量计:10sccm、50sccm质量流量控制器各1套;
    膜厚监控仪:可选配国产或进口单水冷探头膜厚仪;
    控制方式:PLC+触摸屏控制系统,具备漏气自检与提示、通讯故障,实现一键抽停真空;
    整机尺寸:L60cm✕W60cm✕H96cm机电一体化机架,预留1个CF35法兰接口。
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