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详细信息
该系列PECVD系统具有固态等离子源、分开式反应气体进气系统，动态衬底温控，全面控制真空系统，采用集中现场控制总线技术的“值守精灵”控制软件，以及友好用户操作界面来操作。适用于室温至1400℃条件下进行的SiO2、SiNx,、 SiONx a-Si薄膜的沉积，同时可实现TEOS源沉积，SiC膜层沉积以及液态或气态源沉积其它材料，尤其适合于有机材料上高效保护层膜和特定温度下无损伤钝化膜的沉积。
清洗镀膜一气呵成，杜绝二次污染；上开启结构，式样观察方便；触屏人机对话整体性操作，安全可靠；;产品采用全自动控制方式，触摸屏，数字化显示；真空系统、工作压强、电源系统及自动匹配、工艺气体流量、加热系统、运动系统、工艺过程、系统监控及数据采集等。
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北京浅蓝纳米科技发展有限责任公司
磁控溅射、热电阻蒸发、多源蒸发与手套箱一体机、有机蒸发、高低温真空探针台、ALD、PE-CVD等、真空键合机；BNC\USB\真空航插电极法兰\RJ45\光纤真空馈通法兰
化学气象沉积镀膜设备
页面价格仅供参考，具体请联系报价价格 价格电议,您可以向供应商询价得到该产品价格- 产品型号：wayesvac-TCPECVD
- 所 在 地：北京
- 更新日期：2025-04-18
合计：1台总价：电议北京浅蓝纳米科技发展有限责任公司 地址： 北京市大兴区旧桥路25号院东亚五环国际8号楼502室内容声明：谷瀑为第三方平台及互联网信息服务提供者，谷瀑（含网站、客户端等）所展示的商品/服务的标题、价格、详情等信息内容系由店铺经营者发布，其真实性、准确性和合法性均由店铺经营者负责。谷瀑提醒您购买商品/服务前注意谨慎核实，如您对商品/服务的标题、价格、详情等任何信息有任何疑问的，请在购买前通过谷瀑与店铺经营者沟通确认；谷瀑上存在海量店铺，如您发现店铺内有任何违法/侵权信息，请在谷瀑首页底栏投诉通道进行投诉。
